真空泵鍍膜是真空泵主要用途的一個關鍵層面，它是以真空設備為基本，運用物理學或有機化學方式，并消化吸收離子束、分子結構束、電子束、等電子束、頻射和磁控等一系列新技術應用，為科研和具體生產制造出示薄膜制取的一種新技術新工藝。簡易地說，在真空泵中把金屬材料、鋁合金或化學物質開展揮發或磁控濺射，使其在被涂敷的物件（稱基鋼板、襯底或基體）上凝結并沉積的方式，稱之為真空泵鍍膜。

大家都知道，在一些原材料的表面上，要是鑲上一層薄膜，就能使原材料具備很多新的、優良的物理學和有機化學特性。二十世紀七十年代，在物件表面上鍍膜的方式關鍵有電鍍法和化學鍍鎳法。前面一種是根據接電源，使鋰電池電解液電解法，被電解法的等離子噴涂到做為另一個電級的基體表面上，因而這類鍍膜的標準，基體務必是電的良導體，并且薄膜薄厚也無法操縱。后面一種是選用有機化學還原法，務必把膜材配置成水溶液，并能快速報名參加氧化反應，這類鍍膜方式不但薄膜的融合抗壓強度差，并且鍍膜既不勻稱也不易控制，另外還會繼續造成很多的廢水，導致比較嚴重的環境污染。因而，這二種被大家稱作濕試鍍膜法的鍍膜加工工藝遭受了非常大的限定。

真空泵鍍膜則是相對性于所述的濕試鍍膜方式而發展趨勢起來的一種新式鍍膜技術性，一般 稱之為干試鍍膜技術性。

歸類

真空泵鍍膜技術性一般分成兩類，即物理學液相沉積（PVD真空鍍膜）技術性和有機化學液相沉積（CVD）技術性。

物理學液相沉積技術性就是指在真空泵標準下，運用各種各樣物理方法，將鍍料汽化成分子、分子結構或使其離化作正離子，立即沉積到基體表面上的方式。制取硬質的反映膜大多數以物理學液相沉積方式制取，它運用某類物理學全過程，如化學物質的熱揮發，或遭受離子轟擊時化學物質表面分子的磁控濺射等狀況，完成化學物質分子從源化學物質到薄膜的可控性遷移全過程。物理學液相沉積技術性具備膜/基結合性好、薄膜勻稱高密度、薄膜薄厚可操控性好、運用的濺射靶材普遍、磁控濺射范疇寬、可沉積厚膜、可制得成份平穩的鋁合金膜和可重復性好等優勢。另外，物理學液相沉積技術性因為其處理工藝溫度可操縱在500℃下列，因而可做為最后的工藝處理用以彈簧鋼和硬質合金刀具類的薄膜數控刀片上。因為選用物理學液相沉積加工工藝可大大提高數控刀片的加工性，大家在爭相開發設計性能卓越、很高的可靠性機器設備的另外，也對其主要用途的拓展，尤其是在彈簧鋼、硬質合金刀具和瓷器類數控刀片中的運用開展了更為深層次的科學研究。

有機化學液相沉積技術性是把帶有組成薄膜原素的氫氧化物汽體或化學物質提供基體，依靠液相功效或基體表面上的化學變化，在基體上制成金屬材料或化學物質薄膜的方式，關鍵包含過熱蒸汽有機化學液相沉積、底壓有機化學液相沉積和兼具CVD和PVD二者特性的低溫等離子有機化學液相沉積等。